单晶硅是信息产业中重要的基础材料,通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁,铝,硼,磷等杂质)
,粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅,以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.
相关信息如下:
①四氯化硅遇水极易水解;
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
③有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-
MnO2+4H++2Cl-
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(2)装置A中g管的作用是______,装置B中的试剂是______,装置C中的试剂是______,装置E中h瓶需要冷却的理由是______.
(3)干燥管F的作用______.