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单晶硅是信息产业中重要的基础材料,通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁,铝,硼,磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气
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问题描述:

单晶硅是信息产业中重要的基础材料,通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁,铝,硼,磷等杂质)

,粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅,以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图.

相关信息如下:

①四氯化硅遇水极易水解;

②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

③有关物质的物理常数见下表:

物质SiCl4BCl3AlCl3FeCl3PCl5
沸点/℃57.712.8-315-
熔点/℃-70.0-107.2---
升华温度/℃--180300162
请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl- △ .

Mn2++Cl2↑+2H2O

MnO2+4H++2Cl- △ .

Mn2++Cl2↑+2H2O

(2)装置A中g管的作用是______,装置B中的试剂是______,装置C中的试剂是______,装置E中h瓶需要冷却的理由是______.

(3)干燥管F的作用______.

何以刚回答:
  由制备四氯化硅的实验流程可知,A中发生二氧化锰与浓盐酸的反应生成氯气,B中饱和实验水除去HCl,C装置中浓硫酸干燥氯气,D中发生Si与氯气的反应生成四氯化硅,由信息可知,四氯化硅的沸点低,则E装置冷却可收集四氯化硅,F可防止空气中的水进入,最后处理含氯气的尾气,   (1)装置A是氯气发生装置,A中的离子方程式为MnO2+4H++2Cl-  △  .
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