光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知:
Ⅰ.(R,R′为烃基或氢)
Ⅱ. (R,R′为烃基)
(1)A分子中含氧官能团名称为___.
(2)G的化学名称为___.
(3)F生成G的反应类型为___.
(4)D分子中最多___个原子共平面.
(5)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为___.
(6)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为___.
(7)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有___种,其中苯环上的一氯代物有两种的同分异构体的结构简式是___.
(8)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为___.