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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键产物,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是()A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2B.该物质可稳定存在于碱
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问题描述:

光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键产物,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是()

A.合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2

B.该物质可稳定存在于碱性溶液中

C.1mol该物质最多可与3molH2发生加成反应

D.该物质可经过缩聚反应制得

姜玉琴回答:
  A.根据结构简式知,该高聚物单体的化学式为C11H10O2,故A正确;   B.含有酯基,所以在进行条件下能水解,则在碱性条件下不能稳定存在,故B错误;   C.苯环、碳碳双键能和氢气发生加成反应,则1mol该物质最多可与4molH2发生加成反应,故C错误;   D.该高分子化合物的直链中只有2个碳原子,则该物质可经过加聚反应制得,故D错误;   故选A.
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