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【【求助】XPS分析时采用的Ar离子刻蚀速度通常是多少呢】
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问题描述:

【求助】XPS分析时采用的Ar离子刻蚀速度通常是多少呢

沈碧娴回答:
  我做的是膜,如果刻蚀的厚度较大,   LZ可否解释一下刻蚀的原因啊?刻蚀应该不会改变表面成分,它只是很少量的去除表面的一些污染,但如果你对你的东西不是很了解,去除量大的话,应该会影响到一些物质的表征吧,尤其是膜,不过据我了解很多做膜的人做XPS时也是会适当的刻蚀的,因为碳的污染会造成影响,所以适当的刻蚀应该是有必要的tof-sims(站内联系TA)Ar得溅射速度与仪器的设定参数,和样品有关,不同样品溅射速率都不一样,一般意义上的溅射速率,才有标准的SiO2样品来标定仪器的溅射速率elionix(站内联系TA)一般是1nm/min.
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