我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：（1）制备三氯氢硅的反应
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问题描述：
我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：
（1）制备三氯氢硅的反应为：Si（s）+3HCl（g）=SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ•mol-1．伴随的副反应有：Si（s）+4HCl（g）=SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ•mol-1．
SiCl4在一定条件下与H2反应可转化为SiHCl3，反应的热化学方程式为：
SiCl4（g）+H2（g）=SiHCl3（g）+HCl（g）△H=___．
（2）由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式为___．该生产工艺中可以循环使用的物质是___（至少写出两种）．
（3）由于SiH4具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法．工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，化学方程式是___；整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为___；整个系统还必须与氧隔绝，其原因是___．
梁刘红回答：
（1）根据盖斯定律，反应SiCl4（g）+H2（g）═SiHCl3（g）+HCl（g）可以看成是Si（s）+3HCl（g）═SiHCl3（g）+H2（g）和反应Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）的差，所以△H═-210kJ•mol-1-（-241kJ•mol-1...
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