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【高纯晶体硅是信息技术的关键材料.(1)硅元素位于周期表的位置___.下面有关硅材料的说法中正确的是___(填字母).A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥B.氮化硅硬度大、】
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问题描述:

高纯晶体硅是信息技术的关键材料.

(1)硅元素位于周期表的位置___.下面有关硅材料的说法中正确的是___(填字母).

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料---光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,故在玻璃尖口点燃H2时出现黄色火焰

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(2)工业上用石英砂和焦炭可制得粗硅.已知:图1

请将以下反应的热化学方程式补充完整:SiO2(s)+2C(s)═Si(s)+2CO(g)△H=___

(3)粗硅经系列反应可生成硅烷(SiH4),硅烷分解生成高纯硅.已知硅烷的分解温度远低于甲烷,用原子结构解释其原因:___,Si元素的非金属性弱于C元素,硅烷的热稳定性弱于甲烷.

(4)将粗硅转化成三氯氢硅(SiHCl3),进一步反应也可制得高纯硅.

①SiHCl3中含有的SiCl4、AsCl3等杂质对晶体硅的质量有影响.根据下表数据,可用___ 方法提纯SiHCl3.

物质SiHCl3SiCl4AsCl3
沸点/℃32.057.5131.6
②用SiHCl3制备高纯硅的反应为SiHCl3(g)+H2(g) 一定条件下

Si(s)+3HCl(g),不同温度下,SiHCl3的平衡转化率随反应物的投料比(反应初始时,各反应物的物质的量之比)的变化关系如图所示.下列说法正确的是___(填字母序号).

a.该反应的平衡常数随温度升高而增大

b.横坐标表示的投料比应该是n(SiHCl3)n(H2)

c.实际生产中为提高SiHCl3的利用率,应适当升高温度

③整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:___.

孙明权回答:
  (1)硅元素三个电子层,最外层4个电子,位于周期表的3周期ⅣA族;   A.碳化硅属于原子晶体,化学性质稳定且熔点较高,但不可用于生产耐高温水泥,故A错误;   B.氮化硅陶瓷是新型无机非金属材料之一,氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承,故B正确;   C.光导纤维是高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料,故C正确;   D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,含有钠元素,在玻璃尖口点燃H2时出现黄色火焰,故D正确;   E.盐酸不与硅反应,硅和氢氟酸反应,采用的是氢氟酸为抛光液抛光单晶硅,故E错误;   故答案为:BCD;   (2)根据两个反应过程能量变化图象可知:Si(s)+O2(s)═SiO2(s)△H=-859.4 kJ•mol-1   2C(s)+O2(s)═2CO(g)△H=-221.0 kJ•mol-1,用第二个方程式减去第一个方程式得出所需反应,SiO2(s)+2C(s)═Si(s)+2CO(g)△H=+638.4kJ•mol-1,得到△H=+638.4 kJ•mol-1,   故答案为:+638.4kJ•mol-1;   (3)硅烷的分解温度远低于甲烷,是因为C和Si最外层电子数相同,C原子半径小于Si,Si元素的非金属性弱于C元素,硅烷的热稳定性弱于甲烷,   故答案为:C和Si最外层电子数相同,C原子半径小于Si;   (4)①根据各物质沸点的不同分离提纯物质,可用蒸馏(或分馏)法,故答案为:蒸馏(或分馏);   ②a.因为随着温度的升高,SiHCl3的转化率增大,平衡右移,则该反应的平衡常数随温度升高而增大,故a正确;   b.增大一种反应物的浓度,能提高其它反应物的转化率,而本身的转化率反而降低,故横坐标表示的投料比应该是n(H
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