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半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一种重要的掺杂剂.实验室要用黄磷(即白磷)与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3,装置如图所示:(部分夹持装置略
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问题描述:

半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一种重要的掺杂剂.实验室要用黄磷(即白磷)与干燥的 Cl2模拟工业生产制取PCl3,装置如图所示:(部分夹持装置略去)

已知:

①黄磷与少量Cl2反应生成PCl3,与过量Cl2反应生成PCl5;

②PCl3遇水会强烈水解生成H3PO3和HC1;

③PCl3遇O2会生成POCl3,POCl3溶于PCl3;

④PCl3、POCl3的熔沸点见表:

物质熔点/℃ 沸点/℃
PCl3-11275.5
POCl32105.3
请回答下列问题:

(1)A装置中制氯气的离子方程式为___.

(2)B中所装试剂是___,F中碱石灰的作用有两种,分别是___、___.

(3)实验时,检査装置气密性后,先打开K3通入干燥的CO2,再迅速加入黄磷.通干燥CO2的作用是___.

(4)粗产品中常含有POCl3、PCl5等,加入黄磷加热除去PCl5后,通过___(填实验操作名称),即可得到较纯净的PCl3.

(5)实验结束时,可以利用C中的试剂吸收多余的氯气,C中反应的离子方程式为___.

(6)通过下面方法可测定产品中PCl3的质量分数

①迅速称取1.00g产品,加水反应后配成250mL溶液;

②取以上溶液25.00mL,向其中加入10.00mL 0.1000mol/L碘水,充分反应;

③向②所得溶液中加入几滴淀粉溶液,用0.1000mol/L的Na2S2O3溶液滴定;

④重复②、③操作平均消耗Na2S2O3溶液8.40mL.

已知:H3PO3+H2O+I2═H3PO4+2HI,I2+2Na2S2O3═2NaI+Na2S4O6,假设测定过程中没有其他反应.根据上述数据,该产品中PC13的质量分数为___.

李旻智回答:
  (1)A装置中,加热条件下,浓盐酸和二氧化锰二者反应生成氯化锰、氯气和水,离子方程式为:MnO2+4H++2Cl-  △  . 
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